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PCBの毒性について
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純正AMD Athlon 64 X2 CPUコンピュータープロセッサー 2GHz 512 KB 2 AM2 AD03800IAA5CS【並行輸入品】 | 施設規模 (焼却能力) |
新施設基準 | 既存施設基準 |
H14.12.1- | |||
廃棄物焼却炉 (火床面積が0.5m2以上、 お米袋 3kg 米テープ 窓付 100枚入 #004193036 バラ販売 取り寄せ品 シモジマ |
4t/h以上 | 0.1 | 1 |
2t/h-4t/h | クッコ 120-10 2本アームプーラー | 5 | |
2t/h未満 | 5 | 超ロング無地ネクタイ MICHIKO LONDONグリーン長い ネクタイMC-LON-155 | |
製鋼用電気炉 | 0.5 | 5 | |
鉄鋼業焼結施設 | 0.1 | 1 | |
亜鉛回収施設 | 1 | 10 | |
アルミニウム合金製造施設 | エスディエス デジタルサイネージスタンド 耐荷重15kg ミニマムタイプ白(DSS15W1) | 5 |
2)排水 特定施設及び排出基準値
特定施設種類 | 基準値 |
・硫酸塩パルプ(クラフトパルプ)又は亜硫酸パルプ(サルファイトパルプ)の製造の用に供する塩素又は塩素化合物による漂白施設 ・カーバイド法アセチレンの製造の用に供するアセチレン洗浄施設 ・硫酸カリウムの製造の用に供する廃ガス洗浄施設 ・アルミナ繊維の製造の用に供する廃ガス洗浄施設 ・担体付き触媒の製造(塩素又は塩素化合物を使用するものに限る。)の用に供する焼成炉から発生するガスを処理する施設のうち廃ガス洗浄施設 ・塩化ビニルモノマーの製造の用に供する二塩化エチレン洗浄施設 ・カプロラクタムの製造(塩化ニトロシルを使用するものに限る。)の用に供する硫酸濃縮施設、シクロヘキサン分離施設、廃ガス洗浄施設 L字型長財布プレーン 8WS-AD720アルティザンアンドアーティスト ・4-クロロフタル酸水素ナトリウムの製造の用に供するろ過施設、乾燥施設及び廃ガス洗浄施設 ・2,3-ジクロロ-1,4-ナフトキノンの製造の用に供するろ過施設及び廃ガス洗浄施設 ・ジオキサジンバイオレットの製造の用に供するニトロ化誘導体分離施設、還元誘導体分離施設、ニトロ化誘導体洗浄施設、還元誘導体洗浄施設、ジオキサジンバイオレット洗浄施設及び熱風乾燥施設 ・アルミニウム又はその合金の製造の用に供する焙焼炉、溶解炉又は乾燥炉から発生するガスを処理する施設のうち廃ガス洗浄施設及び湿式集じん施設 ・亜鉛の回収(製鋼の用に供する電気炉から発生するばいじんであって、集じん機により集められたものからの亜鉛の回収に限る。)の用に供する精製施設、廃ガス洗浄施設及び湿式集じん施設 ・担体付き触媒(使用済みのものに限る。)からの金属の回収(ソーダ灰を添加して焙焼炉で処理する方法及びアルカリにより抽出する方法(焙焼炉で処理しないものに限る。)によるものを除く。)の用に供するろ過施設、精製施設及び廃ガス洗浄施設 ・廃棄物焼却炉(火床面積0.5m2以上又は焼却能力50kg/h以上)に係る廃ガス洗浄施設、湿式集じん施設、汚水又は廃液を排出する灰の貯留施設 ・廃PCB等又はPCB処理物の分解施設及びPCB汚染物又はPCB処理物の洗浄施設及び分離施設 ・フロン類(CFC及びHCFC)の破壊(プラズマ反応法、廃棄物混焼法、液中燃焼法及び過熱蒸気反応法によるものに限る。)の用に供するプラズマ反応施設、廃ガス洗浄施設及び湿式集じん施設 ・水質基準対象施設から排出される下水を処理する下水道終末処理施設 ・水質基準対象施設を設置する工場又は事業場から排出される水の処理施設 |
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