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一方、溶けにくく、沸点が高い、熱で分解しにくい、不燃性、電気絶縁性が高いなど、化学的にも安定な性質を有することから、電気機器の絶縁油、熱交換器の熱媒体、ノンカーボン紙など累積売上総額第1位!21/22秋冬【MONCLER GRENOBLE】CARDIGANNBK 鍋屋バイテック イソメック ポリドライブ プーリー PK-118-4
PCBの毒性について
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1級遮光 防炎 ドレープカーテン/遮光カーテン 〔幅150×丈245cm 1枚入り グリーン〕 洗える 無地 日本製 タッセル付き | 施設規模 (焼却能力) |
新施設基準 | 既存施設基準 |
H14.12.1- | |||
廃棄物焼却炉 (火床面積が0.5m2以上、 ST6000NM0024 SATA 6 Gb/s HDD ??????(6TB) Seagate???????【並行輸入品】 |
4t/h以上 | 0.1 | 1 |
2t/h-4t/h | Logitech G Pro Wireless Gaming Mouse with Esports Grade Performance | 5 | |
2t/h未満 | 5 | サンドビック T-Max P 旋削用ネガ・チップ(110) 2035 (WNMG 08 04 08-MR 2035 (110)) 【10個セット】 WNMG 08 04 08-MR 2035 (110) | |
製鋼用電気炉 | 0.5 | 5 | |
鉄鋼業焼結施設 | 0.1 | 1 | |
亜鉛回収施設 | 1 | 10 | |
アルミニウム合金製造施設 | ERD7014W 遠藤照明 ユニバーサルダウンライト 白枠鏡面コーン LED(白色) 広角 | 5 |
2)排水 特定施設及び排出基準値
特定施設種類 | 基準値 |
・硫酸塩パルプ(クラフトパルプ)又は亜硫酸パルプ(サルファイトパルプ)の製造の用に供する塩素又は塩素化合物による漂白施設 ・カーバイド法アセチレンの製造の用に供するアセチレン洗浄施設 ・硫酸カリウムの製造の用に供する廃ガス洗浄施設 ・アルミナ繊維の製造の用に供する廃ガス洗浄施設 ・担体付き触媒の製造(塩素又は塩素化合物を使用するものに限る。)の用に供する焼成炉から発生するガスを処理する施設のうち廃ガス洗浄施設 ・塩化ビニルモノマーの製造の用に供する二塩化エチレン洗浄施設 ・カプロラクタムの製造(塩化ニトロシルを使用するものに限る。)の用に供する硫酸濃縮施設、シクロヘキサン分離施設、廃ガス洗浄施設 FKD Tスロットエンドミル24×7 (TSE24X7) フクダ精工(株) ・4-クロロフタル酸水素ナトリウムの製造の用に供するろ過施設、乾燥施設及び廃ガス洗浄施設 ・2,3-ジクロロ-1,4-ナフトキノンの製造の用に供するろ過施設及び廃ガス洗浄施設 ・ジオキサジンバイオレットの製造の用に供するニトロ化誘導体分離施設、還元誘導体分離施設、ニトロ化誘導体洗浄施設、還元誘導体洗浄施設、ジオキサジンバイオレット洗浄施設及び熱風乾燥施設 ・アルミニウム又はその合金の製造の用に供する焙焼炉、溶解炉又は乾燥炉から発生するガスを処理する施設のうち廃ガス洗浄施設及び湿式集じん施設 ・亜鉛の回収(製鋼の用に供する電気炉から発生するばいじんであって、集じん機により集められたものからの亜鉛の回収に限る。)の用に供する精製施設、廃ガス洗浄施設及び湿式集じん施設 ・担体付き触媒(使用済みのものに限る。)からの金属の回収(ソーダ灰を添加して焙焼炉で処理する方法及びアルカリにより抽出する方法(焙焼炉で処理しないものに限る。)によるものを除く。)の用に供するろ過施設、精製施設及び廃ガス洗浄施設 ・廃棄物焼却炉(火床面積0.5m2以上又は焼却能力50kg/h以上)に係る廃ガス洗浄施設、湿式集じん施設、汚水又は廃液を排出する灰の貯留施設 ・廃PCB等又はPCB処理物の分解施設及びPCB汚染物又はPCB処理物の洗浄施設及び分離施設 ・フロン類(CFC及びHCFC)の破壊(プラズマ反応法、廃棄物混焼法、液中燃焼法及び過熱蒸気反応法によるものに限る。)の用に供するプラズマ反応施設、廃ガス洗浄施設及び湿式集じん施設 ・水質基準対象施設から排出される下水を処理する下水道終末処理施設 ・水質基準対象施設を設置する工場又は事業場から排出される水の処理施設 |
【まとめ買い10個セット品】 万能こし(すり棒付)L-0214 |